德国Hellma CaF2:Eu晶体材料

德国Hellma CaF2:Eu晶体材料适用于激光光学器件

德国Hellma GmbH & Co. KG是一家成立于1922年的公司，由Karl Mayer创立。Hellma最初以生产简单的光学玻璃比色皿起家，这些产品主要用于旋光、比色和分光光度测试。随着科学行业的兴旺，特别是五十年代，比色测试成为了定性分析和定量分析的常用方法，Hellma也积极开发和扩展其产品系列以满足新型比色皿的迅速增长需求。

主要产品：

Hellma比色皿

Hellma晶体材料

Hellma光学材料

Hellma光学玻璃

Hellma光学元件

Hellma晶体材料CaF2:Eu

抗震性和抗热冲击能力：CaF2:Eu晶体具有很强的抗震性和抗热冲击能力，这使得它能够在恶劣的环境中稳定工作。

机械加工性能：该晶体具有良好的机械加工性能，便于制造成各种形状和尺寸的探测器。

探测能力：CaF2:Eu晶体在低能伽马射线和带电粒子（尤其是β射线）探测方面表现出色，广泛应用于低能核物理实验和相关领域。

闪烁性能：作为一种闪烁晶体，CaF2:Eu在受到辐射照射时能够产生闪烁，这些闪烁可以被光电倍增管（PMT）或其他探测器转换为电信号，用于辐射的检测和测量。

应用领域：由于其优异的闪烁特性和探测能力，CaF2:Eu晶体被广泛应用于环境监测、核医学、高能物理、安检以及核素识别等领域。

光学特性：作为Hellma品牌的光学材料，CaF2:Eu晶体继承了CaF2基质材料的优良光学特性，包括高宽带透射率、低折射率和低光谱色散，使其在UV、VIS和IR光谱范围内都有出色的表现。

激光耐久性：CaF2:Eu晶体具有出色的激光耐久性，适用于Excimer激光光学器件（157nm、193nm、248nm）。

高能粒子和辐射耐受性：该晶体还具有合格的高能粒子和辐射耐受性，使其能够在高辐射环境下使用。

型号示例：

Hellma晶体材料CaF2:Eu

Hellma晶体材料LBC:Ce

Hellma晶体材料CeBr3

Hellma晶体材料Yb3+

Hellma晶体材料BaF2

Hellma晶体材料CaF2

Hellma晶体材料CVD Zinc Sulfide

Hellma晶体材料Cleartran

Hellma晶体材料CVD Zinc Selenide

德国Hellma CaF2:Eu晶体材料适用于激光光学器件